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凡是计划在mountainview，sunnyvale和santaclara买房的小伙伴，大部分和Wen在讨论时都会提及Superfund，尤其是前年很火后来又滞销的TheVale刚好建在Superfund上面。也有一部分第一次买房的小伙伴头次听到superfund这个词。
到底这些Superfund是不是被妖魔化了？
没关系，今天Wen一个一个给你们分析，看看哪些是已经清理完毕，哪些还需要注意。
先说说什么是Superfund？
Superfund是美国环保署（EPA）超级基金制度，是世界上最先进的污染场地管理制度。在硅谷成为今天的科技谷之前，完全就是一个生产芯片和各种电子设备的工业区。早期安全技术不成熟，硅谷的工厂发生了很多意外。在1960-1980，Intel，Raytheon等其它公司曾经在这里生产半导体及其它电子产品，在生产期间，大量三氯乙烯（TCE）和其它化学用品被泄漏或排入到土壤及地下水中，更可怕的是这些化学成分最终会蒸发到空气中，产生对人体有害的蒸汽，所以又被普遍称为毒蒸汽区。
为了治理这些泄漏，硅谷形成了21个superfund。这些基地的土壤和地下水，在当时，也就是1980年代，都不同程度的受到过TCE的污染。
三氯乙烯（TCE）是一种致癌物，并可导致帕金森症及心脏病，对人体的危害极大。如果你已经居住在superfundsites内，可以要求免费测试空气。如果你准备在Mountain View，Sunnyvale或Santa Clara等地购房，可以参考CaliforniaSuperfunds Site地图，预先查看感兴趣的物业是否位于毒蒸汽区内。
南湾superfundsite地图（资料来自EPA）
Palo Alto
1.The Hewlett-Packard (HP) Site (HP Site or Site)
地址：620- 640 PAGE MILL RD. PALO ALTO, CA 94304
状态：已清理
从1962年到1986年，这里是大名鼎鼎的光电学设备专家惠普在湾区的工厂。在1981年，发现一个1000加仑的地下溶剂储罐泄漏。此后，在美国环保署的指导下，进行了深度清理工作，Hewlett-Packard移除了超过11000立方尺的污染土壤，并采取土壤蒸汽抽提，生物通风等措施治理和恢复水土。
2015美国环保署和加州政府对Hewlett-Packard进行了一次完善的评估，结果显示这个superfund的水土中已经没有对人体有危害的物质。
Mountain View
2.CTS PRINTEX, INC.
地址：PLYMOUTH& COLONY STS MOUNTAIN VIEW, CA 94043
状态：土壤已清理，地下水持续清理中
CTS Printex在运营期间，排出的废物——金属和挥发性有机化合物（VOC），包括三氯乙烯（TCE），导致土壤和地下水污染。美国环保署于1990年将该地址添加到Superfundsite（NPL）。1987年至1996年发生了积极的地下水开采，成功地清除了大约100磅的TCE和超过1.06亿加仑的污染地下水。2015年EPA给出的结论Five-YearReviews (FYR)是不会有危害，截至目前，土壤的清理工作已经完成，但是地下水的清理工作还在继续中。
3.TELEDYNE SEMICONDUCTOR
地址：1300TERRA BELLA AVE MOUNTAIN VIEW, CA 94043
状态：地下水持续清理中
1982年，Teledyne向加州地区水质控制委员会（CRWQCB）报告，土壤和地下水被地下溶剂储罐中的溶剂污染。2014年9月FYR报告显示，地下水的开采和处理的原技术需要进一步提高，需要继续监测和减少蒸汽侵入，包括逐步降低浅层地下水的TCE浓度。
4.SPECTRA-PHYSICS, INC.
地址：1250W MIDDLEFIELD RD MOUNTAIN VIEW, CA 94042
状态：地下水持续清理中
自1961年以来Spectra-Physics公司一直是电子和气体激光器制造业务的所在地。制造过程和废水污染了土壤和地下水，包括四氯乙烯（PCE），三氯乙烯（TCE），氯乙烯和1,1-二氯乙烷（1,1-DCA）。和上一个superfund一样，2014年9月FYR报告显示，需要采取新的技术继续监测和减少蒸汽侵入。
5.JASCO CHEMICAL CORP.
地址：1710VILLA ST MOUNTAIN VIEW, CA 94041
状态：已清理
Jasco Chemical Corp.从1976到1995年在这里包装和配制化学产品。在建筑物后面的土壤和地下水中检测到挥发性有机化合物（VOC）含量升高。被污染的土壤已经被清理干净，地下水处理系统在确认地下水达到安全标准后也已经关闭。
6.FAIRCHILD SEMICONDUCTOR CORP.
地址：369,515 N Whisman, 313 Fairchild & 401 National MOUNTAIN VIEW, CA 94042
状态：已清理，持续监督中
Fairchild Semiconductor Corp.半导体制造公司，是三个superfund优先清理（NPL）站点之一。另外两个站点是Intel站点和Raytheon站点，这三个站点组成Middlefield-Ellis-Whisman（MEW）研究区。1981年和1982年在其中几个设施进行的现场调查显示，土壤和地下水污染严重，主要是挥发性有机化合物（VOCs）。
在EPA的监督下，MEW公司，实施了土壤和地下水清理计划，包括土壤挖掘和处理，土壤蒸汽提取和处理系统以及地下水提取和处理系统，已经清除了超过76,000磅的污染物。
目前，土壤已经被清理完毕，地下水的清理工作还在继续，但是地下水不用于饮用水并且没有毒气蒸发出来的渠道。
7.RAYTHEON CORP.
地址：350ELLIS ST MOUNTAIN VIEW, CA 94043
状态：已清理，持续监督中
Raytheon也是半导体制造厂，和上一个站点组成MEW研究区。1996年至2000年运行土壤蒸汽提取系统，从土壤中去除了约3,000磅的VOC。环保署在设施拆除活动结束后，清除了约440吨被污染的土壤。2003年至2007年的抽样调查发现蒸汽通过地下水管道进入很多建筑中，2010年EPA选择了一种新的技术，解决VOCs的暴露问题，而且确保长期有效。
8.INTEL CORP.
地址：365E MIDDLEFIELD RD MOUNTAIN VIEW, CA 94040
状态：已清理，持续监督中
从1968年到1981年，该工厂在2英亩的土地上制造半导体。该工厂和上面两个工厂组成MEW。1981年和1982年在其中几个设施进行的现场调查显示，有毒化学品（主要是挥发性有机化合物（VOCs））对土壤和地下水造成严重污染。
在EPA的指导和监督下，从1982年以来，英特尔实施了土壤和地下水清理计划。
到1986年，英特尔已经清除了4,600立方尺的污染土壤。并拆除水箱和密封受污染的水井以防止污染物迁移。2010年，EPA选择了一种补救措施，解决TCE和其它挥发性有机化合物暴露的问题。
Sunnyvale
9.WESTINGHOUSE ELECTRIC CORP.
地址：401HENDY AVENUE SUNNYVALE，CA95117
状态：土壤已清理，地下水持续清理中
西屋电气公司占地75英亩，制造蒸汽发动机，船舶推进系统和导弹发射系统的制造。被污染的土壤和泄漏罐已经移走，现在长期在治理被污染的地下水。
10.ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
地址：915DEGUIGNE SUNNYVALE, CA 94086
状态：土壤已清理，地下水持续清理中
1973年，公司在附近地下安装了有机污染物的储罐，1981年，由于储罐泄漏，在附近发现了挥发性有机化合物VOCs。1982年，移除了5600立方尺的被污染土壤和泄漏储罐，增加了液压屏障防止地下水污染外流。2011年的空气抽样表明保护系统依然有效。
11.TRW MICROWAVE, INC (BUILDING 825)
地址：825STEWART DR SUNNYVALE, CA 94086
状态：土壤已清理，地下水对人体没有影响
TRW微波公司在微波元件和半导体制造过程中污染了地下水和土壤。被污染的土壤和储罐已经被移除，2014年的报告指出目前这个位置的土壤和地下水对人体健康没有影响。
12.ADVANCED MICRO DEVICES, INC.
地址：901THOMPSON PL SUNNYVALE, CA 94086
状态：土壤已清理，地下水目前没有影响，但是需要持续关注
AMD于1969年至1992年间在此处设计和制造了半导体器件，地下水受到挥发性有机化合物（VOC）的污染，包括三氯乙烯（TCE）。1983年和1984年拆除了两个储罐，并将受影响的土壤挖出并运往处置设施。该物业于2007年作为自助仓库出售和重建。
13.MONOLITHIC MEMORIES
地址：1165E ARQUES AVE SUNNYVALE, CA 94086
状态：土壤已清理，地下水目前没有影响，持续监督中
1982年，发现此处的土壤和地下水受到挥发性有机化合物（VOC）的影响，移除了储罐和受污染的土壤，同时安装了地下水的净化系统。2005年在拆除时损坏了一台变压器，在地面上溢出了大约250加仑的四氯乙烯（也称为Perc或PCE）。 TWC在区域水务委员会的监督下实施了土壤和地下水清理作业。
14.NATIONAL SEMICONDUCTOR CORP.
地址：2900SEMICONDUCTOR AVE SANTA CLARA, CA 95050
状态：土壤已清理，地下水使用新的技术持续清理。
美国国家半导体公司（NationalSemiconductor）此前在这个占地50英亩的地方制造了电子设备。地下储罐，集水坑和管道污染来源。从1982年开始，美国国家半导体关闭并拆除其泄漏的水箱和设备，建立了地下水泵和处理系统，并清除污染的土壤。
Cupertino
15.INTERSIL INC./SIEMENS COMPONENTS
地址：10900N TANTAU AVE/19000 HOMESTEAD RD CUPERTINO, CA 95014
状态：土壤已清理，地下水持续清理中
1986年至1988年间，清除了污染源，包括废物中和系统，废溶剂罐和地上化学品和危险废物储存区。Sunnyvale和Cupertino的饮用水不受此污染的影响。
Santa Clara
16.APPLIED MATERIALS
地址：3050BOWERS AVE SANTA CLARA, CA 95051
状态：清理完毕，持续监督。
该工厂从1974年制造用于制造半导体晶片的设备。在20世纪70年代，挥发性有机化合物（VOC）被用作清洁和脱脂的工业溶剂。设施运营导致地下水污染。1984年工厂安装了地下水提取和清理系统，1985年移除了被污染的土壤和储罐，2002年关闭了处理系统
17.INTEL MAGNETICS
地址：3000OAKMEAD VILLAGE DR SANTA CLARA, CA 95051
状态：地下水持续清理中，但是没有暴露途径
这家工厂生产和测试磁性产品和计算机存储器。由于地下储罐泄漏造成的有机化合物SVOC污染。2012年FYR没有发现地下水蒸发气体有暴露途径。
18.SYNERTEK, INC. (BUILDING 1)
地址：3050CORONADO BLVD SANTA CLARA, CA 95051
状态：土壤已清理，地下水持续清理中，但是没有暴露途径
1974年，Synertek公司在这里进行半导体制造业务。1979年，霍尼韦尔收购了Synertek作为全资子公司。Synertek的制造业务于1985年停止。在1985年之前，Synertek在该建筑东侧建造并运营了两个地下储罐系统。地下储罐泄漏导致挥发性有机化合物（VOCs）释放到场地下方的土壤中。这些储罐以及受影响的土壤于1985年被拆除。
19.INTEL CORP. (SANTA CLARA III)
地址：2880NORTHWESTERN PKWY SANTA CLARA, CA 95051
状态：已清理
英特尔公司制造过程中释放了挥发性有机化合物（VOCs），1992年完成了所有的清理和补救措施，目前地下水的开采和处理已经停止。2010年的监测显示清理措施有效。
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